Pasarela Desafío Alta Moda: la tecnología como aliado creativo

La tecnología puede ser un excelente aliado en el proceso creativo de los diseñadores de moda. Así también lo cree la Carrera de Diseño de Vestuario de DUOC-UC, sede Viña del Mar, que este año llevó a cabo el Desafío Alta Moda, donde invitó a estudiantes, titulados y profesores a participar en forma abierta y voluntaria en este programa, que tenía como premisa la experimentación con nuevos materiales y tecnologías digitales aplicadas al diseño. A días de conocer el resultado de este proceso en una bella pasarela en el Palacio Rioja conversé con Vivian Urmeneta, directora de la carrera, quien me entregó detalles de este proceso del que también fue partícipe.

Los motivos para realizar entre cruce con la tecnología

"Creemos que las tecnologías digitales abren perspectivas formales muy interesantes para el vestuario, sobre todo desde una perspectiva complementaria al trabajo manual. Como Escuela de Diseño hemos ido incorporando distintas herramientas tecnológicas en  nuestros laboratorios de desarrollo de productos, con las que se torna necesario experimentar para extender sus opciones de uso y potenciar así la innovación en productos de Diseño.

Por supuesto que también nos inspiró profundamente la Exposición Manus x Machina, Fashion in the Age of Technology, montada en el MET Museum de New York el 2016, así como lo planteado por Thomas P. Campbell, director del Museo Metropolitano de Nueva York:  'La moda y la tecnología están conectadas más que nunca. Es el momento ideal para examinar los roles que lo hecho a mano y lo hecho a máquina han tenido en el proceso creativo. Esta exhibición propone un nuevo punto de vista en el que lo hecho a mano y lo hecho a máquina, que usualmente se presentan como opuestos, son protagonistas por igual'.

Nuestro Desafío Alta Moda propone, sin dejar de lado el trabajo manual minucioso y experto, sumar la experimentación con nuevos materiales y tecnologías digitales aplicadas al diseño, integrándolas con técnicas textiles y de alta costura para el desarrollo de propuestas de indumentaria editorial icónica.  Las tecnologías a explorar fueron estampado digital por sublimación y/o transfer, bordado computacional, corte láser, impresión 2 y 3D, entre otras. También se sumó el reto de desarrollar propuestas de alto valor de diseño a partir del menor costo posible, considerando reciclaje, reutilización y/o resignificación de materiales.

A través del respeto por la técnica, los materiales y el tiempo dedicado, este reposado proceso se traduce en vestuarios  realizados uno a uno, y a través de los que se manifiesta un nuevo concepto de lujo, aquel que da lugar también a la experiencia emocional del creador y al orgullo por el trabajo bien hecho".

Los principales aprendizajes de Desafío Alta Moda

"Uno de los ejes de este desafío fue invitar a alumnos, titulados y profesores a participar en forma abierta y voluntaria en este programa.

El hecho de plantearlo como un reto respondió al objetivo de motivar una participación que naciera desde el encantamiento y la voluntad de cada uno, entregando lo mejor de sí en este proceso. No fue una actividad curricular formal, sino una invitación a dar curso el propio entusiasmo, a disfrutar de la experimentación con materiales y técnicas, y del proceso creativo de diseño.

El plan de trabajo, de 10 semanas de duración, estuvo guiado por el diseñador de vestuario Rodolfo Vera como experto en técnicas y confección, coordinado por Pitti Palacios y apoyado por un staff conformado por profesionales de distintas áreas, los que acompañaron a los participantes y facilitaron el desarrollo de los proyectos.

Quisimos  cultivar buenas prácticas y apelar a la alegría de crear e innovar, aspectos muy relevante  por tratarse de un proyecto  inserto dentro de un marco académico.

Con el fin de motivar a los jóvenes de hoy, nos pareció que un sistema de selección que incluía dinámicas asociadas a la tecnología actual y las redes sociales era interesante de explorar. Es así como un jurado conformado por especialistas definirá a los 3 finalistas, de los cuales resultará ganador el que obtenga mayor votación en redes sociales.

Yo misma participé en este desafío solo por el placer de hacerlo.

Dedique mucho trabajo y tiempo, y disfruté plenamente  construyendo un vestuario que diera cuenta de un manifiesto. 'Capa Razón'  es un vestuario realizado 100% con reciclaje de bolsas plásticas, basado en armaduras de protección, cortezas y  texturas orgánicas que acompañan el movimiento del cuerpo. Quise poner en valor el hecho de que se puede hacer más con menos, rescatando a través de la técnica y el diseño, la nobleza de un material de desecho".

Diseño de Vivian Urmeneta, directora de la carrera de diseño de vestuario DUOC-UC sede Viña del Mar

Jurado y premio del Desafío Alta Moda

 El jurado de Desafio Alta Moda está confirmado por directora de Escuelas de Diseño y Comunicación Duoc UC, Angelina Vacarella Abiuso; el subdirector del Museo de la Moda, Alexandros Apostolakis; el coordinador de Chile de Fashion Revolution, Pablo Galaz Esquivel; la asesora Editorial Revista Casa Etc. El Mercurio de Valparaíso, Marisol Ortiz Elfeldt; y la diseñadora y docente DUOC-UC, Viviana Dinamarca Soza.

Diseño del docente Rodolfo Vera

Los ganadores obtendrán como incentivo un premio donado por Maniquíes Ortega, además de una visita exclusiva a los laboratorios de conservación del Museo de la Moda, para ver vestuario histórico original.

Rodolfo Vera y Vivian Urmeneta no entran en competencia por este premio por su calidad de docentes DUOC-UC. Si lo hacen Rafael Delgado, Lisette Godoy, Javiera Stuardo, María Ester Guzmán, Marcela Muñoz, Carolina Rebolledo, Valentina Bórquez, Karin Morales, Karina Calisto, Javiera Pérez, Rocío Cadiz, Johannes Prado y Macarena Ruz.

Fanpage de Desafío Alta Moda

(Fotos gentileza de Carrera de Diseño de Vestuario de DUOC-UC, sede Viña del Mar)